中國上市公司網(wǎng)訊6月30日，上交所官網(wǎng)披露了江蘇魯汶儀器股份有限公司(以下簡稱“魯汶儀器”或公司)首次公開發(fā)行股票招股說明書(申報稿)，公司IPO材料被正式受理。

據(jù)悉，魯汶儀器本次擬公開發(fā)行股票數(shù)量不超過6,528.21萬股，占本次發(fā)行后總股本比例不低于25%。擬于上交所科創(chuàng)板上市，保薦機構(gòu)為中信證券（600030）。

公開資料顯示，魯汶儀器致力于為集成電路制造（884227）產(chǎn)業(yè)提供先進的裝備和工藝解決方案，自設(shè)立以來專注于半導體（881121）前道設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。公司秉持與國內(nèi)友商差異化發(fā)展的策略，以自研獨有技術(shù)為核心，形成了以離子束設(shè)備和電感耦合(ICP)等離子體刻蝕設(shè)備為核心，化學氣相沉積設(shè)備和氣相分解金屬沾污收集設(shè)備為輔助的多品類產(chǎn)品矩陣，公司相應產(chǎn)品廣泛應用于先進工藝的邏輯和存儲晶圓廠以及特色工藝的功率晶圓廠和光學顯示廠。

公司自設(shè)立以來即聚焦離子束工藝和等離子體刻蝕兩大工藝，通過創(chuàng)造性的結(jié)合兩種工藝，自主研發(fā)出第一代新興存儲器工藝設(shè)備(LMEC-200)，解決了以磁阻隨機存儲器(MRAM)為代表的新興存儲器件量產(chǎn)塑形工藝難題，2018年在與國際主流廠商的競爭中取得中國臺灣工研院的銷售訂單。此后，公司基于新興存儲器工藝設(shè)備的不同工藝腔室衍生出離子束設(shè)備、ICP刻蝕設(shè)備、CVD設(shè)備（CVV）等不同獨立產(chǎn)品線。此外，公司也自研VPD設(shè)備并實現(xiàn)量產(chǎn)。